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RND Service

증착 서비스

증착 서비스

RND는 아래와 같은 재료를 고객 니즈에 맞춰 스퍼터링 공정서비를 진행하고 있습니다. 증착 서비스 비용은 증착물질, 박막두께, 기판크기, 주문수량에 따라 달라집니다.
메뉴판에 없는 물질증착의 경우 문의를 남겨주시면 가능여부 확인하여 답변 드리겠습니다. 아래 견적 게시판을 통해 견적을 요청하여 주세요.

스퍼터링 증착 서비스 메뉴

Menu Materials Film Thickness Substrate
Common Metals Cu, Ti, Cr, Ni, Al, Si, Ru, Ta, W, Mo

Typical thickness :
< 1 um

(The film thickness over 1 um is also possible
according to film materials. Hence, please,
ask us before request.)

Type:

- Si wafers
- Single crystals
- Glasses
- Ceramics
- Metal plates
- Plastics, etc.

Size:

- (max) dia: 8 inches (200 mm)
A piece of substrate also
possible

Noble Metals Au, Ag, Pt, Pd
Nitrides Cu, Ti, Cr, Ni, Al, Si, Ru, Ta, W, Mo
Oxides SiO2, TiO2, Ta2O5, RuO2, NiO
Other Materials NiCr, Ta-SiO2

Pt 박막

Type Crystallographic
Orientation of Pt
Thickness (nm) Si Wafer
(Substrate)
SiO2 Glue layer Pt
1 Pt/SiO2/Si (111) 300 none 150
2 (200) 300 none 150
3 Pt/SiO2/Si (111) 300 10 150 P-type (100)
4 Pt/TiO2/SiO2/Si (111) 300 20 150
5 (200) 300 20 150

Au 박막

Type Thickness (nm) Substrate Application
Au Glue
1 Au/Cr 43 5 대부분의 기판에
증착 가능함
MEMS 소자,
Piezo소자,
전극패드
150 10
2 Au/NiCr/Ti 200 500/400

Cu 박막

Type Thickness (nm) Substrate Application
Cu Glue
1 Cu/Ti 500 200 대부분의 기판에
증착 가능함
MEMS 소자,
Cu 도금 공정을
위한 Cu 씨앗층
300 100
Service Thickness Delivery Variation
Thermal Oxidation (4"~6") 300Å ~ 24,000Å 1weeks ± 5%
Sputtering (4"~6") Customerized 1weeks ± 10%
가능 Target : Ni, Cr, Ni+Cr, Al, 1%Si+Al, Ti, TiN, ITO, IZO, Pt, Au, Ta
LPCVD(Si3N4) 1,000Å ~ 3,000Å 1weeks ± 5%
Dicing Customerized 1weeks
Polishing 100um ~ 500um 1weeks ± 1%